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脉冲工艺在薄膜制备中的应用

注意：本论文已在《真空科学与技术学报》，2004，24(增)：33-37发表
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赵彦辉 林国强 董闯 闻立时
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室 辽宁 大连 116024

摘 要 本文综述了国内外脉冲工艺在电弧离子镀和磁控溅射中的应用。脉冲工艺为电弧离子镀净化大颗粒、增强膜基结合力、改善组织形貌、降低沉积温度等起到了重要作用。电弧或溅射离子镀高的离化率为脉冲工艺提供了最好的应用条件。最后，对脉冲工艺在薄膜制备中的应用前景进行了展望。
关键词 电弧离子镀 脉冲工艺 低温沉积


ABSTRACT The application of pulse technique on arc ion plating and magnetron sputtering is summarized in the article. Pulse technique plays an important role in providing reduced marcroparticles pollution, enhancing adhesion between film and substrate, improving surface morphology and decreasing deposition temperature. Arc ion plating or magnetron sputtering provides the best application condition for pulse technique. Finally, prospect is given to the application foreground of pulse technique in film deposition.
KEY WORDS arc ion plating, pulse technique, low temperature deposition

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